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Dienstag, 12. November 2019

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GlobeNewswire: Advantest präsentiert Elektronenstrahllithografie-Lösungen auf der 45. Micro & Nanoengineering (MNE) Show in Rhodos, Griechenland vom 23. bis 26. September

18.09.2019, 18:51 Uhr

Advantest präsentiert Elektronenstrahllithografie-Lösungen auf der
45. Micro & Nanoengineering (MNE) Show in Rhodos, Griechenland vom 23. bis
26. September

MÜNCHEN, Deutschland, Sept. 18, 2019 (GLOBE NEWSWIRE) -- Der führende Anbieter
von Halbleitertestgeräten Advantest Corporation (TSE: 6857) wird sein
Elektronenstrahllithografiesystem F7000 und die dazugehörigen Messgeräte in
Halle A, Stand #7 auf der 45. Konferenz für Mikro- und Nanotechnik (MNE) vom
23. bis 26. September im Rodos Palace Hotel in Rhodos, Griechenland,
vorstellen.

Nach 11 Jahren kehrt die MNE-Konferenz nach Griechenland zurück und ist die
wichtigste internationale Veranstaltung, die sich auf Mikro-/Nanofertigungs-
und Fertigungstechniken sowie Anwendungen von hergestellten
Mikro-/Nanostrukturen, Geräten und Mikrosystemen in den Bereichen Elektronik,
Photonik, Energie, Umwelt, Chemie und Life Sciences konzentriert. Die Konferenz
umfasst vier parallele Sitzungen, Plenarvorträge, eingeladene Präsentationen,
Vorträge und Posterpräsentationen sowie eine kommerzielle Ausstellung.


Advantest präsentiert auf seinem Stand das Lithografiesystem F7000 EB, das
einen hohen Durchsatz und eine hervorragende Auflösung sowie die Möglichkeit
bietet, sehr genaue und glatte Nanomuster auf Wafern für den
1X-nm-Technologieknoten zu erzeugen.  Durch seine Charakterprojektions- und
Direktschreibtechnologie eignet er sich hervorragend als Designwerkzeug für FuE
und Prototyping sowie als Lösung für LSI-Produktionslinien, in denen
Kleinserien-Multiplexgeräte hergestellt werden.


Das Portfolio der Nanotechnologie-Lösungen von Advantest umfasst mehrere
weitere Messtechnikprodukte, darunter eine Familie von
Multivisionsmesstechnik-Rasterelektronenmikroskopen (MVM-SEM ® ), die eine
Echtzeit-, 3D-Messung und Bildgebung von Wafern und Photomasken ermöglichen.
Das in diesem Jahr eingeführte MVM-SEM-System E3650 Mask bietet die
branchenweit beste Mustermessungsfunktion und den höchsten Durchsatz für
Anwendungen wie erweiterte Fotomasken, EUV-Fotomasken und NIL-Vorlagen.  Das
Maskenfehler-Rasterelektronenmikroskop E5610 (DR-SEM) des Unternehmens wurde
für die Überprüfung und Klassifizierung kleinster Defekte in Fotomasken und
Rohlingen der nächsten Generation entwickelt.  Es bietet eine hochstabile,
vollautomatische Bilderfassung mit der langfristigen Betriebsstabilität und
Zuverlässigkeit, die für die Fertigungsanalyse kritischer Masken unerlässlich
ist.


Folgen Sie Advantest auf Twitter @Advantest_ATE.  Weitere Informationen finden
Sie unter www.advantest.com .

Über Advantest Corporation
Advantest ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen und führender
Hersteller von automatischen Prüfgeräten (ATE) für die Halbleiterindustrie
sowie ein führender Hersteller von Messgeräten für die Entwicklung und
Herstellung von elektronischen Geräten und Systemen.  Seine hochmodernen
Systeme und Produkte sind in die modernsten Halbleiterproduktionslinien der
Welt integriert.  Das Unternehmen konzentriert sich außerdem auf die Forschung
und Entwicklung für neue Märkte, die von Fortschritten bei Nanotech- und
Terahertz-Technologien profitieren, und hat
Multivision-Metrologie-Scanning-Elektronenmikroskope, die essentiell für die
Herstellung von Fotomasken sind, sowie bahnbrechende Instrumente für
3D-Bildgebung und -Analyse entwickelt.  Advantest wurde 1954 in Tokio gegründet
und eröffnete seine erste Niederlassung 1982 in den USA. Mittlerweile unterhält
das Unternehmen Niederlassungen weltweit.  Weitere Informationen finden Sie
unter www.advantest.com .

ADVANTEST CORPORATION
3061 Zanker Road
San Jose, CA 95134, USA
Judy Davies
Judy.davies@advantest.com
Stand: 08.01 Uhr | Börsenschluss in 1:26 Std.
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